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半导体材料清洗机有哪些呢?

2020/8/3 9:43:48 

1 用于锗片的清洗,也可以用于其他晶片的清洗腐蚀

  2工艺说明:手动方式实现放件,取件,槽体间传送件。

  3 设备形式: 室内放置型。

  4 腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性

  5 工艺参数(温度,时间,DIW水清洗模式、时间可调)手动由触摸屏界面可设定

  6 机台前方为清洗工作区域,机台后上方为电器和气路布置区域,后下方为液路布置区域。

  7 药液供给及补液方式: 分体式CDS自动供液系统

  8 DI槽配有在线式水质检测装置

  9 配有分体式废液回收系统

  标签:半导体清洗机


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