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半导体有哪些材料清洗机呢?

2020/7/15 10:49:13 

1 用于锗片的清洗,也可以用于其他晶片的清洗腐蚀
  2工艺说明:手动方式实现放件,取件,槽体间传送件。
  3 设备形式: 室内放置型。
  4 腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性;
  5 工艺参数(温度,时间,DIW水清洗模式、时间可调)手动由触摸屏界面可设定;
  6 机台前方为清洗工作区域,机台后上方为电器和气路布置区域,后下方为液路布置区域。
  7 药液供给及补液方式: 分体式CDS自动供液系统
  8 DI槽配有在线式水质检测装置;
  9 配有分体式废液回收系统
  标签:半导体清洗机

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